{"id":2824,"date":"2021-10-29T17:17:41","date_gmt":"2021-10-29T17:17:41","guid":{"rendered":"http:\/\/www.nonwovenmillrolls.com\/?p=2164"},"modified":"2026-10-13T15:07:08","modified_gmt":"2026-10-13T15:07:08","slug":"copper-strip-surface-cleaning-technology-equipment","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.nonwovenmillrolls.com\/pl\/copper-strip-surface-cleaning-technology-equipment\/","title":{"rendered":"Technologia i sprz\u0119t do czyszczenia powierzchni ta\u015bm miedzianych"},"content":{"rendered":"\n

Podczas produkcji ta\u015bm miedzianych i ze stop\u00f3w miedzi na ich powierzchni po procesie wy\u017carzania i walcowania znajduj\u0105 si\u0119 r\u00f3\u017cne zanieczyszczenia organiczne i nieorganiczne. W przypadku niew\u0142a\u015bciwego post\u0119powania lub w atmosferze o wysokiej temperaturze powierzchnia ta\u015bmy miedzianej ulega utlenieniu, a pozosta\u0142y olej walcowy r\u00f3wnie\u017c zanieczyszcza jej powierzchni\u0119. Niew\u0142a\u015bciwe przechowywanie produkt\u00f3w po\u015brednich mo\u017ce r\u00f3wnie\u017c prowadzi\u0107 do przebarwie\u0144 powierzchni. W zwi\u0105zku z szerokim zastosowaniem wyrob\u00f3w z ta\u015bm miedzianych w nowoczesnym przemy\u015ble, wymagania dotycz\u0105ce jako\u015bci ich powierzchni s\u0105 coraz wy\u017csze. Aby uzyska\u0107 wysokiej jako\u015bci ta\u015bm\u0119 miedzian\u0105, bardzo istotne jest wzmocnienie procesu czyszczenia jej powierzchni. Dlatego technologia i sprz\u0119t do czyszczenia powierzchni ta\u015bm miedzianych s\u0105 powszechnie cenione.<\/p>\n\n\n\n

\"\"<\/figure>\n\n\n\n

1 Technologia czyszczenia powierzchni ta\u015bmy miedzianej<\/h3>\n\n\n\n

1.1 Odt\u0142uszczanie<\/h4>\n\n\n\n

Przeznaczeniem odt\u0142uszczania jest usuni\u0119cie zanieczyszcze\u0144 organicznych z powierzchni ta\u015bmy miedzianej, zw\u0142aszcza resztek oleju walcowniczego oraz mieszanego z nim oleju mechanicznego. Odt\u0142uszczanie jest przede wszystkim stosowane jako etap przed kwasowym czyszczeniem i polerowaniem powierzchni. Je\u015bli odt\u0142uszczenie nie zostanie wykonane w pe\u0142ni, tlenki na powierzchni ta\u015bmy miedzianej nie b\u0119d\u0105 mog\u0142y zosta\u0107 ca\u0142kowicie usuni\u0119te przez kwas. Metody odt\u0142uszczania obejmuj\u0105: odt\u0142uszczanie rozpuszczalnikami, odt\u0142uszczanie zasad\u0105, odt\u0142uszczanie elektrolityczne oraz odt\u0142uszczanie ultrad\u017awi\u0119kowe.<\/p>\n\n\n\n

1.1.1 Odt\u0142uszczanie rozpuszczalnikami<\/h5>\n\n\n\n

Rozpuszczalniki do odt\u0142uszczania obejmuj\u0105 te na bazie ropy naftowej, zawieraj\u0105ce chlor, fluor oraz surfaktanty. Systemy ropopochodne \u0142atwo powoduj\u0105 po\u017cary, systemy chlorowe s\u0105 rakotw\u00f3rcze, a systemy fluorowe szkodliwe dla warstwy ozonowej, dlatego rzadko si\u0119 ich u\u017cywa. Ostatnio opracowano wi\u0119cej surfaktant\u00f3w. Surfaktanty w\u0142\u0105czaj\u0105 lipofilowe grupy do cz\u0105steczek i emulguj\u0105 olej w wodzie, aby osi\u0105gn\u0105\u0107 odt\u0142uszczenie.<\/p>\n\n\n\n

1.1.2 Odt\u0142uszczanie zasadowe<\/h5>\n\n\n\n

T\u0142uszcze i oleje zwierz\u0119ce oraz ro\u015blinne s\u0105 rozk\u0142adane za pomoc\u0105 zasad i hydrolizowane w celu otrzymania wysokiej jako\u015bci kwas\u00f3w t\u0142uszczowych sodowych (myd\u0142a) oraz gliceryny. Ta reakcja saponifikacji prowadzi do odt\u0142uszczania, a powsta\u0142e myd\u0142o dzia\u0142a jako anionowy \u015brodek powierzchniowo-czynny, wspomagaj\u0105c proces odt\u0142uszczania. Jednak olej wa\u0142kowniczy jest olejem mineralnym, g\u0142\u00f3wnie alifatycznymi w\u0119glowodorami ropopochodnymi, i nie ulega saponifikacji. Dlatego w procesie odt\u0142uszczania zasadowego nale\u017cy dodawa\u0107 \u015brodki powierzchniowo-czynne.<\/p>\n\n\n\n

1.1.3 Odt\u0142uszczanie elektrolityczne<\/h5>\n\n\n\n

Odt\u0142uszczanie elektrolityczne jest bardzo skuteczn\u0105 metod\u0105. Zazwyczaj wykorzystuje si\u0119 j\u0105 w roztworze odt\u0142uszczaj\u0105cym o zasadowym odczynie. Woda ulega elektrolizie. Elektroliza katodowa (u\u017cywa si\u0119 ta\u015bmy miedzianej jako katody) powoduje wydzielanie si\u0119 wodoru, a elektroliza anodowa \u2013 tlenu. Wydzielone b\u0105belki mog\u0105 usuwa\u0107 zanieczyszczenia z powierzchni. Wod\u00f3r powstaj\u0105cy podczas elektrolizy katodowej jest dwa razy wi\u0119kszy ni\u017c tlen, a redukcyjny wp\u0142yw wodoru dodatkowo aktywuje powierzchni\u0119. Dlatego odt\u0142uszczanie elektrolityczne ta\u015bm miedzianych stosuje metod\u0119 elektrolizy katodowej, jednak nale\u017cy zwraca\u0107 uwag\u0119 na wytr\u0105canie si\u0119 zanieczyszcze\u0144 metalicznych w roztworze odt\u0142uszczaj\u0105cym oraz na mo\u017cliwo\u015b\u0107 nadmiernego odt\u0142uszczenia. Dodatek cyjanu pomaga zapobiega\u0107 wytr\u0105caniu si\u0119 zanieczyszcze\u0144 metalicznych, ale wi\u0105\u017ce si\u0119 z problemami zanieczyszczeniami i musi by\u0107 stosowany \u015bci\u015ble. Elektroliza anodowa, dzi\u0119ki utlenianiu tlenu, mo\u017ce usuwa\u0107 substancje konserwuj\u0105ce z powierzchni ta\u015bmy miedzianej, kt\u00f3rych nie mo\u017cna usun\u0105\u0107 za pomoc\u0105 elektrolizy katodowej, ale nara\u017cona jest na ryzyko nadmiernego odt\u0142uszczenia.<\/p>\n\n\n\n

I. 1.4 Odt\u0142uszczanie ultrad\u017awi\u0119kowe<\/h4>\n\n\n\n

Maszyna do czyszczenia ultrad\u017awi\u0119kowego odt\u0142uszczaj\u0105cego sk\u0142ada si\u0119 z generatora sygna\u0142u ultrad\u017awi\u0119kowego i zbiornika do czyszczenia odt\u0142uszczaj\u0105cego. Generator sygna\u0142u ultrad\u017awi\u0119kowego generuje wysokocz\u0119stotliwo\u015bciowy sygna\u0142 oscylacyjny (fala sinusoidalna), kt\u00f3ry za pomoc\u0105 przetwornika wytwarza dziesi\u0105tki tysi\u0119cy wysokocz\u0119stotliwo\u015bciowych drga\u0144 mechanicznych na sekund\u0119, tworz\u0105c fale ultrad\u017awi\u0119kowe w p\u0142ynie odt\u0142uszczaj\u0105cym, kt\u00f3re naprzemiennie wywo\u0142uj\u0105 ci\u015bnienia dodatnie i ujemne w wysokiej cz\u0119stotliwo\u015bci. Przedni rozchodzenie si\u0119 fal (z funkcjami bezpo\u015bredniego promieniowania, odbicia i za\u0142amania) w g\u0119stej i zwartej materii powoduje, \u017ce p\u0142yn odt\u0142uszczaj\u0105cy nieprzerwanie produkuje bezliczne male\u0144kie p\u0119cherzyki, kt\u00f3re stale p\u0119kaj\u0105. Zjawisko to nazywa si\u0119 \u201eefektem kawitacji\u201d. Gdy p\u0119cherzyki p\u0119kaj\u0105, powstaje chwilowe wysokie ci\u015bnienie przekraczaj\u0105ce 1 000 atmosfer, co prowadzi do serii eksplozji, uwolnienia ogromnej energii i wywarcia silnego dzia\u0142ania na powierzchni ta\u015bmy miedzianej, dzi\u0119ki czemu olej szybko odkleja si\u0119 z jej powierzchni, osi\u0105gaj\u0105c cel odt\u0142uszczenia i czyszczenia. Przy stosowaniu odt\u0142uszczania ultrad\u017awi\u0119kowego rozpuszczalnikami, je\u015bli powierzchnia ta\u015bmy miedzianej jest lekko utleniona, nie jest wymagane trawienie. Do \u015brodka czyszcz\u0105cego dodaje si\u0119 \u015brodek pasywuuj\u0105cy, aby r\u00f3wnocze\u015bnie z czyszczeniem dokona\u0107 pasywacji, co znacznie upraszcza proces i sprz\u0119t do odt\u0142uszczania i czyszczenia.<\/p>\n\n\n\n

1.2 Karczowanie<\/h5>\n\n\n\n

W por\u00f3wnaniu z mechanicznym czyszczeniem powierzchni istniej\u0105 dwa rodzaje chemicznego czyszczenia powierzchni ta\u015bmy miedzianej: trawienie i zanurzanie. Metoda usuwania grubej warstwy tlenku z powierzchni i d\u0142ugotrwa\u0142ego zanurzania ta\u015bmy miedzianej w roztworze kwasowym nazywana jest trawieniem; natomiast metoda usuwania warstwy tlenku i kr\u00f3tkotrwa\u0142ego zanurzania ta\u015bmy miedzianej w roztworze kwasowym nazywana jest zanurzaniem. Tradycyjnie obie te metody s\u0105 wsp\u00f3lnie okre\u015blane jako trawienie. Roztw\u00f3r do trawienia ta\u015bm miedzianych zwykle stanowi roztw\u00f3r kwasu siarkowego, a jego st\u0119\u017cenie zale\u017cy od stopnia utlenienia powierzchni ta\u015bmy miedzianej. W nowoczesnej produkcji ta\u015bm miedzianych utlenienie powierzchni jest stosunkowo niewielkie, dlatego wi\u0119kszo\u015b\u0107 proces\u00f3w trawienia wykorzystuje roztw\u00f3r kwasu siarkowego o st\u0119\u017ceniu od 5% do 15%. Temperatura to temperatura pokojowa, a niekt\u00f3re procesy prowadzone s\u0105 przy ogrzewaniu do 60\u00b0C. Czas trawienia w urz\u0105dzeniach przep\u0142ywowych wynosi od 10 do 60 sekund. Konkretne parametry procesu trawienia nale\u017cy dostosowa\u0107 do r\u00f3\u017cnych gatunk\u00f3w ta\u015bm miedzianych oraz stanu ich powierzchni. St\u0119\u017cenie roztworu kwasu dla mosi\u0105dzu jest stosunkowo niskie, podczas gdy dla br\u0105zu i miedzi czerwonej jest wy\u017csze. Aby wzmocni\u0107 efekt trawienia stop\u00f3w miedzi-niklu, do roztworu kwasu siarkowego dodaje si\u0119 utleniacze, takie jak kwas azotowy i nadtlenek wodoru. Jednak ze wzgl\u0119du na uwalnianie NO\u2082 przez kwas azotowy, nie powinno si\u0119 go nadmiernie u\u017cywa\u0107. Kwas solny tworzy \u015brodowisko korozjogenne oparte na jonach chlorku, co przyspiesza przebarwianie ta\u015bm miedzianych i powoduje korozj\u0119 urz\u0105dze\u0144, dlatego nale\u017cy go unika\u0107. Og\u00f3lnie rzecz bior\u0105c, po\u0142\u0105czenie trawienia i szlifowania mo\u017ce przynie\u015b\u0107 dobre rezultaty.<\/p>\n\n\n\n

1.3 Szlifowanie i czyszczenie<\/h5>\n\n\n\n

Metody szlifowania obejmuj\u0105 polerowanie, szczotkowanie rolkowe i szlifowanie rolkowe itp., aby oczy\u015bci\u0107 powierzchni\u0119 mechaniczn\u0105. Do ko\u0142a polerskiego wykonanego z tkaniny, lnu, \u017cywicy itp. dodaje si\u0119 materia\u0142y \u015bcierniwe, takie jak karbid krzemu, tlenek glinu itp., lub stosuje si\u0119 szczotk\u0119 drucian\u0105 z nylonu (poliamidu) pokryt\u0105 tlenkiem glinu. Szczotkowanie mechaniczne s\u0142u\u017cy do czyszczenia powierzchni ta\u015bmy miedzianej. Aby poprawi\u0107 jako\u015b\u0107 polerowania i szlifowania powierzchni ta\u015bmy miedzianej, usuwanie t\u0142uszczu, trawienie kwasowe, polerowanie i szlifowanie s\u0105 zwykle po\u0142\u0105czone w jedn\u0105 lini\u0119 produkcyjn\u0105. Podczas polerowania i szlifowania, w zale\u017cno\u015bci od rodzaju ta\u015bm miedzianych, ich grubo\u015bci oraz stanu powierzchni, nale\u017cy dobiera\u0107 r\u00f3\u017cne wa\u0142ki szczotkowe do polerowania i szlifowania oraz \u015brednice nici z w\u0142\u00f3kien nylonowych (poliamidowych), wielko\u015bci cz\u0105steczek lub siatki i twardo\u015b\u0107 wa\u0142k\u00f3w szczotkowych. W przypadku szczotek drucianych polerskich pokrytych tlenkiem glinu zwykle stosuje si\u0119 szczotk\u0119 polersk\u0105 o \u015brednicy drutu 0,25\u20130,3 mm i rozmiarze siatki 500\u2013600 mesh. W przypadku wa\u0142ka szczotkowego \u015bciernego wykonanego z tkaniny nietkanej rozmiar siatki wynosi 1500\u20132000 mesh, a twardo\u015b\u0107 40 (mi\u0119kka) lub 60 (\u015brednia). Dla wyrob\u00f3w o wy\u017cszych wymaganiach dotycz\u0105cych powierzchni ta\u015bm miedzianych mo\u017cna nawet stosowa\u0107 wa\u0142ki szczotkowe \u015bcierniwe o rozmiarach siatki 250 000\u20133 000 mesh. Im wy\u017csza siatka, tym kr\u00f3tsza \u017cywotno\u015b\u0107 szczotki. Podczas u\u017cytkowania nale\u017cy dostosowa\u0107 ci\u015bnienie styku mi\u0119dzy szczotk\u0105 polersk\u0105 a powierzchni\u0105 ta\u015bmy miedzianej, czyli stopie\u0144 \u015bcierania wa\u0142ka szlifierskiego, oraz odpowiedni\u0105 pr\u0119dko\u015b\u0107 obrotow\u0105 wa\u0142ka szczotkowego, w zale\u017cno\u015bci od stanu powierzchni ta\u015bmy miedzianej. W przypadku grubo walcowanych i wy\u017carzonych ta\u015bm ze spi\u017cu cynowo-fosforowego, aby usun\u0105\u0107 defekty powierzchni powsta\u0142e podczas odlewania i walcowania oraz poprawi\u0107 jako\u015b\u0107 powierzchni ta\u015bm, cz\u0119sto stosuje si\u0119 elastyczne ko\u0142a szlifierskie o ni\u017cszym rozmiarze siatki (220 mesh). Na grubej ta\u015bmie wykonuje si\u0119 proste polerowanie powierzchni.\u3000\u3000 Wanfang Data nr 2 Gong Shoupeng: Technologia i sprz\u0119t do czyszczenia powierzchni ta\u015bm miedzianych 71 Cho\u0107 taka obr\u00f3bka zwi\u0119ksza straty metalu na powierzchni ta\u015bmy, znacz\u0105co przyczynia si\u0119 do poprawy jako\u015bci jej powierzchni. Ta metoda jest r\u00f3wnie\u017c skuteczna w usuwaniu i poprawie powierzchni ta\u015bm mosi\u0119\u017cnych wytwarzanych metod\u0105 ci\u0105g\u0142ego odlewania poziomego, powsta\u0142ych w wyniku nieprawid\u0142owego procesu topienia i odlewania oraz niedok\u0142adnej obs\u0142ugi.<\/p>\n\n\n\n

1.4 Obr\u00f3bka pasywacyjna (antykorozyjna) powierzchni<\/h5>\n\n\n\n

Poniewa\u017c sam metal miedziany jest zasad\u0105 Lewisa, \u0142atwo traci elektrony i utlenia si\u0119; zw\u0142aszcza \u017ce stop miedzi ma ujemny potencja\u0142 r\u00f3\u017cnicowy, co sprawia, \u017ce w wilgotnym i gor\u0105cym \u015brodowisku bardzo \u0142atwo ulega utlenieniu, powoduj\u0105c przebarwienia. Dlatego te\u017c zapobieganie przebarwieniom po czyszczeniu stanowi wa\u017cn\u0105 cz\u0119\u015b\u0107 obr\u00f3bki powierzchniowej ta\u015bm miedzianych. Tradycyjne metody antyoksydacyjne obejmuj\u0105 pasywacj\u0119 chromianow\u0105 oraz pasywacj\u0119 benzotriazolem (BTA). Chromian wykazuje silne w\u0142a\u015bciwo\u015bci utleniaj\u0105ce i mo\u017ce tworzy\u0107 na powierzchni miedzi nieaktywn\u0105 warstw\u0119 pasywn\u0105, pe\u0142ni\u0105c rol\u0119 ochronn\u0105 i zapewniaj\u0105c dobry efekt pasywacji. Ze wzgl\u0119du na ograniczenia \u015brodowiskowe t\u0119 metod\u0119 czyszczenia nie mo\u017cna ju\u017c stosowa\u0107 na du\u017c\u0105 skal\u0119. Benzotriazol i jego pochodne skutecznie hamuj\u0105 korozj\u0119 miedzi i obecnie s\u0105 najcz\u0119\u015bciej stosowanymi pasywatoremi. Mechanizm pasywacji BTA (C\u2086H\u2085N\u2083) polega na tym, \u017ce atom wodoru w grupie NH pier\u015bcienia benzynowego BTA wielokrotnie wi\u0105\u017ce si\u0119 koordynacyjnie z jednowarto\u015bciow\u0105 miedzi\u0105, tworz\u0105c film zwi\u0105zk\u00f3w o strukturze polimeropodobnej, kt\u00f3ry \u015bci\u015ble przylega do powierzchni ta\u015bmy. Wed\u0142ug dost\u0119pnych danych grubo\u015b\u0107 tego filmu mo\u017ce osi\u0105gn\u0105\u0107 5\u00d710\u207b\u2076 mm, a jego stabilno\u015b\u0107 termiczna wynosi 300\u00b0C; punkt topnienia jest ni\u017cszy ni\u017c 100\u00b0C, a materia\u0142 zachowuje stabilne w\u0142a\u015bciwo\u015bci w zakresie pH 3\u201312. Przy stosowaniu st\u0119\u017cenie roztworu wodnego wynosi 0,5%\u20131% (procent masowy), a temperatura 60\u201380\u00b0C. Ze wzgl\u0119du na ograniczon\u0105 rozpuszczalno\u015b\u0107 BTA w wodzie najlepiej rozpu\u015bci\u0107 go w odpowiedniej ilo\u015bci alkoholu przed dodaniem do wody o mi\u0119kkiej twardo\u015bci. W ostatnich latach w Chinach opracowano nowy preparat pasywuj\u0105cy dla stop\u00f3w miedzi \u2013 CC-2002. Opiera si\u0119 on na bazie BTA z dodatkiem r\u00f3\u017cnych substancji organicznych. Przygotowanie, stosowanie i konserwacja preparatu s\u0105 bardzo proste. Efekt antyoksydacyjny jest znacznie lepszy ni\u017c w przypadku tradycyjnego BTA, a produkt nie zawiera jon\u00f3w metali ci\u0119\u017ckich ani szkodliwych dla \u015brodowiska substancji chemicznych, a jego pH jest zbli\u017cone do oboj\u0119tnego. Nie powoduje korozji urz\u0105dze\u0144 ani podra\u017cnie\u0144 sk\u00f3ry, stanowi\u0105c nowy rodzaj pasywatorka wart popularyzacji i zastosowania.<\/p>\n\n\n\n

2 Sprz\u0119t do czyszczenia powierzchni ta\u015bmy miedzianej<\/h5>\n\n\n\n

Jednostka czyszcz\u0105ca ta\u015bmy miedziane to specjalistyczne urz\u0105dzenie opracowane w ci\u0105gu ostatnich 20 lat, kt\u00f3re zosta\u0142o nieustannie udoskonalane i dopracowywane w praktycznym u\u017cytkowaniu. Zazwyczaj jednostka czyszcz\u0105ca ta\u015bmy miedziane sk\u0142ada si\u0119 z r\u00f3\u017cnych jednostek funkcjonalnych. Te jednostki obejmuj\u0105: jednostki odt\u0142uszczania i mycia, jednostki kwasowania i mycia, jednostki polerowania i mycia oraz jednostki pasywacji i suszenia. R\u00f3\u017cne jednostki funkcjonalne mog\u0105 tworzy\u0107 linie produkcyjne do obr\u00f3bki powierzchni ta\u015bm miedzianych o r\u00f3\u017cnym przeznaczeniu, takie jak: linia do odt\u0142uszczania powierzchni; linia do odt\u0142uszczania i kwasowania powierzchni; linia do odt\u0142uszczania, kwasowania, polerowania, szlifowania i pasywacji powierzchni. Ponadto, ze wzgl\u0119du na du\u017c\u0105 d\u0142ugo\u015b\u0107 linii czyszcz\u0105cej wynikaj\u0105c\u0105 z wielofunkcyjnego po\u0142\u0105czenia jednostek, du\u017cy zapotrzebowanie na powierzchni\u0119 pod\u0142ogi oraz niewygod\u0119 obs\u0142ugi przy stanowisku operacyjnym, w ostatnim czasie opr\u00f3cz uk\u0142adu jednopoziomowego rozwin\u0105\u0142 si\u0119 r\u00f3wnie\u017c dwupoziomowy uk\u0142ad linii czyszcz\u0105cej ta\u015bm miedzianych. Uk\u0142ad jednopoziomowy linii produkcyjnej do czyszczenia ta\u015bm miedzianych przedstawiono na Rycinie 1, a uk\u0142ad dwupoziomowy linii produkcyjnej do czyszczenia ta\u015bm miedzianych \u2013 na Rycinie 2.<\/p>\n\n\n\n

2.1 \u0141\u0105czenie ta\u015bm miedzianych<\/h5>\n\n\n\n

Szycie g\u0142owy i ogona dw\u00f3ch rolek ta\u015bmy miedzianej odbywa si\u0119 zazwyczaj przy u\u017cyciu hydraulicznej maszyny do szycia ta\u015bm, wyposa\u017conej w dwie matryce g\u00f3rne i dolne, uk\u0142ad hydrauliczny oraz przednie i tylne p\u0142yty prowadz\u0105ce. U\u017cywa si\u0119 g\u00f3rnych i dolnych matryc wkl\u0119s\u0142o-wypuk\u0142ych do wykucia po\u0142\u0105cze\u0144 i wprowadzenia drut\u00f3w miedzianych, aby po\u0142\u0105czy\u0107 dwie ta\u015bmy. Za ka\u017cdym razem, gdy zszyta cz\u0119\u015b\u0107 ta\u015bmy przechodzi przez rolk\u0119 dociskow\u0105, rolk\u0119 \u015bciskaj\u0105c\u0105 lub rolk\u0119 szczotkow\u0105, te rolki automatycznie si\u0119 podnosz\u0105, aby zapobiec uszkodzeniom. Po przej\u015bciu zszytej cz\u0119\u015bci rolka automatycznie zostaje docisni\u0119ta. Ostatnio w maszynach czyszcz\u0105cych zacz\u0119to stosowa\u0107 metod\u0119 spawania punktowego \u0142ukiem argonowym do zszywania ta\u015bm ze wzgl\u0119du na jej prost\u0105 obs\u0142ug\u0119.<\/p>\n\n\n\n

2.2 Jednostka odt\u0142uszczania i mycia<\/h4>\n\n\n\n

Jednostka zwykle sk\u0142ada si\u0119 z komory odt\u0142uszczania ta\u015bmy, komory mycia w zimnej wodzie, kilku par kapsu\u0142owanych wa\u0142k\u00f3w prasuj\u0105cych, zbiornika na \u015brodek odt\u0142uszczaj\u0105cy, systemu cyrkulacji i urz\u0105dzenia grzewczego. W ostatnich latach, aby poprawi\u0107 efekt odt\u0142uszczania, przed komor\u0105 odt\u0142uszczaj\u0105c\u0105 dodano przedo\u015bcieranie natryskowe. Komora odt\u0142uszczaj\u0105ca jest wyposa\u017cona w wa\u0142ek szczotkowy z nylonowych (Belon) drut\u00f3w bez \u015brodk\u00f3w \u015bciernych oraz wa\u0142ek ci\u015bnienia odwrotnego. Pr\u0105d silnika wa\u0142ka szczotkowego mo\u017cna regulowa\u0107, aby dostosowa\u0107 nacisk szczotki do ta\u015bmy. Jednostka odt\u0142uszczaj\u0105ca firmy Hyundai jest r\u00f3wnie\u017c wyposa\u017cona w urz\u0105dzenia do filtracji \u015brodka odt\u0142uszczaj\u0105cego i automatycznego oddzielania oleju od wody. Z\u0142a separacja oleju od wody w \u015brodku odt\u0142uszczaj\u0105cym spowoduje pogorszenie efektu odt\u0142uszczania.<\/p>\n\n\n\n

2.3 Karczowanie i p\u0142ukanie wod\u0105<\/h4>\n\n\n\n

Konstrukcja zbiornika do trawienia ta\u015bm wyst\u0119puje w dw\u00f3ch typach: prosta jednowarstwowa przelotowa i dwuwarstwowa g\u00f3ra-d\u00f3\u0142. Wsp\u00f3\u0142czesne trawienie ta\u015bm miedzianych wykorzystuje konstrukcj\u0119 dwuwarstwowego zbiornika cyrkulacyjnego typu podnoszonego g\u00f3ra-d\u00f3\u0142. W dolnej warstwie znajduje si\u0119 kwas, a ta\u015bma przechodzi przez warstw\u0119 g\u00f3r\u0105. Je\u015bli ta\u015bma wymaga trawienia, uruchamia si\u0119 pompa cyrkulacji kwasu, kt\u00f3ra podnosi kwas z dolnej warstwy do g\u00f3rnej, dzi\u0119ki czemu ta\u015bma zostaje ca\u0142kowicie zanurzona w kwasie. Poniewa\u017c roztw\u00f3r kwasowy zanurzaj\u0105cy ta\u015bm\u0119 znajduje si\u0119 w stanie przep\u0142ywowym, efekt trawienia jest lepszy. Je\u015bli ta\u015bma nie wymaga trawienia, wystarczy wy\u0142\u0105czy\u0107 pomp\u0119 kwasu; kwas z warstwy g\u00f3rnej sp\u0142ynie z powrotem do dolnej, a ta\u015bma przejdzie bezpo\u015brednio. Po trawieniu na powierzchni ta\u015bmy miedzianej pozostaje roztw\u00f3r kwasowy. Zazwyczaj przy wylocie zbiornika kwasowego umieszcza si\u0119 dwa pary wa\u0142k\u00f3w prasuj\u0105cych, a po wyci\u015bni\u0119ciu ta\u015bma wprowadzana jest do komory myj\u0105cej zimn\u0105 wod\u0105, z\u0142o\u017conej z rur i dysz.<\/p>\n\n\n\n

2.4 Polerowanie, szlifowanie i szczotkowanie<\/h4>\n\n\n\n

Polerowanie, szlifowanie i szczotkowanie s\u0105 bardzo istotnymi etapami czyszczenia powierzchni ta\u015bm miedzianych. Zazwyczaj odbywa si\u0119 to w skrzyni szczotkowej wyposa\u017conej w szczotk\u0119 polersk\u0105 lub szczotk\u0119 \u015bciern\u0105 obrotow\u0105 z du\u017c\u0105 pr\u0119dko\u015bci\u0105, przy jednoczesnym rozpylaniu du\u017cej ilo\u015bci wody do p\u0142ukania. Istnieje wiele typ\u00f3w wa\u0142k\u00f3w szczotkowych; do og\u00f3lnego szczotkowania mo\u017cna stosowa\u0107 zwyk\u0142e wa\u0142ki ze szczotek nylonowych. Do polerowania i szlifowania powierzchni ta\u015bmy cz\u0119sto wykorzystuje si\u0119 wa\u0142ki szczotkowe o spirali u\u0142o\u017conej z tlenkiem glinu lub karbidem krzemu (Anderlon) lub z wysokowytrzyma\u0142ych sztucznych w\u0142\u00f3knin. Wa\u0142ki \u015bciernicze wykonane s\u0105 z w\u0142\u00f3kien. W przypadku ta\u015bm miedzianych o szeroko\u015bci pasma do 400 mm wa\u0142ki szczotkowe do polerowania i szlifowania mog\u0105 mie\u0107 konstrukcj\u0119 wspornikow\u0105. Dla ta\u015bm o szeroko\u015bci pasma wi\u0119kszej ni\u017c 400 mm wi\u0119kszo\u015b\u0107 konstrukcji jest podparta na obu ko\u0144cach wa\u0142ka szczotkowego. Dok\u0142adno\u015b\u0107 wykonania sprz\u0119tu, dynamika wa\u0142ka szczotkowego oraz warunki monta\u017cu wp\u0142ywaj\u0105 na jako\u015b\u0107 polerowania i szlifowania powierzchni ta\u015bmy, a nawet mog\u0105 sprawi\u0107, \u017ce ta\u015bma stanie si\u0119 nieprzydatna do u\u017cytku z powodu wyra\u017anych \u015blad\u00f3w szczotkowania. Pr\u0119dko\u015b\u0107 obrotowa wa\u0142ka szczotkowego mo\u017ce wynosi\u0107 nawet 750\u20131200 obr.\/min. Mo\u017cna r\u00f3wnie\u017c zwi\u0119kszy\u0107 liczb\u0119 wa\u0142k\u00f3w szczotkowych \u015bciernych i rozmie\u015bci\u0107 r\u00f3\u017cne typy lub siatki szczotek \u015bciernych przed i za sob\u0105, aby oczy\u015bci\u0107 powierzchni\u0119 ta\u015bmy miedzianej i poprawi\u0107 jej czysto\u015b\u0107.<\/p>\n\n\n\n

2.5 Wielopoziomowe wykorzystanie wody sp\u0142ukuj\u0105cej<\/h4>\n\n\n\n

Linia produkcyjna do czyszczenia ta\u015bm miedzianych z funkcjami odt\u0142uszczania, trawienia, polerowania, szlifowania i pasywacji; ka\u017cda jednostka funkcyjna musi by\u0107 wyposa\u017cona w system mycia wod\u0105 zimn\u0105. Je\u015bli woda p\u0142ucz\u0105ca dla ka\u017cdej jednostki jest dostarczana i odprowadzana oddzielnie, zu\u017cycie wody jest bardzo du\u017ce. Dlatego wprowadzono urz\u0105dzenie wielostopniowe do p\u0142ukania wod\u0105, zwane \u201epodaniem odwrotnym\u201d. Dzieli ono zbiornik na wod\u0119 p\u0142ucz\u0105c\u0105 na kilka osobnych zbiornik\u00f3w. Woda p\u0142ucz\u0105ca po polerowaniu wraca do zbiornika nr 1. Woda z zbiornika nr 1 jest u\u017cywana jako woda p\u0142ucz\u0105ca po trawieniu ta\u015bmy. Woda p\u0142ucz\u0105ca wraca do zbiornika nr 2, gdzie s\u0142u\u017cy do p\u0142ukania po odt\u0142uszczeniu ta\u015bmy, a nast\u0119pnie odprowadza si\u0119 j\u0105 z powrotem. Poniewa\u017c woda u\u017cywana do polerowania zawiera wi\u0119cej py\u0142u miedzianego i innych cz\u0105steczek, konieczne jest wyposa\u017cenie urz\u0105dzenia w oddzieln\u0105 filtracj\u0119 ta\u015bmow\u0105, co umo\u017cliwia jej recykling po przefiltrowaniu.<\/p>\n\n\n\n

2.6 Pasywacja i suszenie<\/h4>\n\n\n\n

Przekszta\u0142cony \u015brodek pasywuj\u0105cy mo\u017ce by\u0107 rozpylany lub zanurzany, aby reagowa\u0107 z przechodz\u0105c\u0105 ta\u015bm\u0105 miedzian\u0105, tworz\u0105c na jej powierzchni film pasywacyjny i zapewniaj\u0105c efekt zapobiegania korozji. Temperatura gor\u0105cego powietrza w komorze susz\u0105cej wynosi oko\u0142o 80\u00b0C, a do ogrzewania zwykle stosuje si\u0119 wentylator cyrkulacji gor\u0105cego powietrza oraz wentylator osuszaj\u0105cy. Aby upewni\u0107 si\u0119, \u017ce powierzchnia ta\u015bmy miedzianej zostanie wysuszona po przej\u015bciu przez komor\u0119 susz\u0105c\u0105, nale\u017cy najpierw usun\u0105\u0107 wilgo\u0107 z jej powierzchni przed wprowadzeniem do komory. Z tego wzgl\u0119du dwa pary gumowych wa\u0142k\u00f3w \u015bciskaj\u0105cych s\u0105 cz\u0119sto wyposa\u017cone w \u201eno\u017ce powietrzne\u201d, kt\u00f3re usuwaj\u0105 resztkow\u0105 wilgo\u0107. Ostatnio zamiast gumowych wa\u0142k\u00f3w \u015bciskaj\u0105cych stosowane s\u0105 wa\u0142ki milenijne firmy 3M (Mill Roll). Wa\u0142ek milenijny to rodzaj wysoce wytrzyma\u0142ego porowatego wa\u0142ka o strukturze tarczy z w\u0142\u00f3kniny, kt\u00f3ry zapewnia lepszy efekt \u015bciskania. Nale\u017cy szczeg\u00f3lnie uwa\u017ca\u0107 przy u\u017cyciu wa\u0142k\u00f3w milenijnych, aby unikn\u0105\u0107 zbyt ostrej kraw\u0119dzi i p\u0119kni\u0119tych brzeg\u00f3w ta\u015bmy miedzianej, co mog\u0142oby j\u0105 uszkodzi\u0107.<\/p>\n\n\n\n

3 Wniosek<\/h3>\n\n\n\n

Urz\u0105dzenie do czyszczenia ta\u015bm miedzianych, sk\u0142adaj\u0105ce si\u0119 z r\u00f3\u017cnych jednostek funkcjonalnych, nie tylko spe\u0142nia wymagania dotycz\u0105ce czyszczenia powierzchni gotowych ta\u015bm miedzianych, ale mo\u017ce r\u00f3wnie\u017c by\u0107 stosowane do czyszczenia powierzchni ta\u015bm miedzianych w procesie po\u015brednim, a nawet do szlifowania i usuwania defekt\u00f3w powierzchniowych surowca do walcowania na gor\u0105co. Wraz z ci\u0105g\u0142ym wzrostem wymaga\u0144 klient\u00f3w dotycz\u0105cych jako\u015bci powierzchni ta\u015bm miedzianych, rozw\u00f3j technologii i urz\u0105dze\u0144 do obr\u00f3bki powierzchni ta\u015bm miedzianych coraz cz\u0119\u015bciej przyci\u0105ga uwag\u0119 zak\u0142ad\u00f3w produkuj\u0105cych mied\u017a oraz producent\u00f3w sprz\u0119tu i sta\u0142 si\u0119 wa\u017cn\u0105 cz\u0119\u015bci\u0105 technologii i wyposa\u017cenia do produkcji ta\u015bm miedzianych, co coraz wyra\u017aniej pokazuje jego znaczenie.<\/p>\n